-
1 titanium plasma sputtering
Dental implantology: TPSУниверсальный русско-английский словарь > titanium plasma sputtering
-
2 распыление
Авиация и космонавтика. Русско-английский словарь > распыление
-
3 магнетронное распыление
Русско-английский новый политехнический словарь > магнетронное распыление
-
4 ионно-плазменное распыление
Microelectronics: ion-plasma sputtering, plasma-assisted ion sputteringУниверсальный русско-английский словарь > ионно-плазменное распыление
-
5 плазменное напыление
1) Engineering: plasma spraying2) Silicates: plasma sputtering3) Automation: plasma coating, plasma-sprayingУниверсальный русско-английский словарь > плазменное напыление
-
6 плазменное распыление
1) Household appliances: plasma sputtering2) Microelectronics: plasma sprayingУниверсальный русско-английский словарь > плазменное распыление
-
7 плазменно-водородное распыление
Makarov: hydrogen plasma sputteringУниверсальный русско-английский словарь > плазменно-водородное распыление
-
8 плазменное напыление титана
Dentistry: Ti plasma sputteringУниверсальный русско-английский словарь > плазменное напыление титана
-
9 напыление
с. sprayingнапыление < под золото> — gold spraying
-
10 напыление
spraying, sputtering* * *напыле́ние с. ( нанесение вещества в дисперсном состоянии на поверхность изделия)
(deposition by) sprayingавтотермоио́нно-эмиссио́нное напыле́ние — cathode sputteringнапыле́ние в ва́кууме — vacuum deposition (technique)напыле́ние в тле́ющем разря́де — glow-discharge sputteringгазопла́менное напыле́ние — flame spraying, flame platingге́ттерное напыле́ние — getter sputteringкато́дное напыле́ние — cathode sputteringла́зерное напыле́ние — laser sprayingпла́зменное напыле́ние — plasma (jet) sprayingнапыле́ние плё́нок — film deposition, film evaporationпорошко́вое напыле́ние — powder sprayingэлектродугово́е напыле́ние — (electric-)arc deposition; (electric-)arc spraying* * * -
11 металлизация
metal(lic) coating, metallized coating, metal deposition, metallization deposition, metaling, metallization, plating* * *металлиза́ция ж.1. (общий термин, описывающий все виды нанесения металлических покрытий для защиты от коррозии, декоративных целей и повышения износостойкости) application [deposition] of a metal coatingосуществля́ть металлиза́цию осажде́нием (напр. из газовой фазы) — apply (a coating) by precipitation (e. g., from gaseous phase)осуществля́ть металлиза́цию погруже́нием в распла́в, напр. алюми́ния — apply (a coating) by immersion in molten, e. g., aluminiumосуществля́ть металлиза́цию погруже́нием в распла́в ци́нка — produce a zinc coating by hot dipping, apply a zinc coating by dipping in a bath of molten zinc2. (вид нанесения металлического покрытия в виде мельчайших капель расплавленного металла) metallizing (process), metal spraying (process) (см. тж. металлизация распылением)3. (электрическое соединение металлических частей, напр. самолёта, автомобиля и т. п.) bondingва́куумная металлиза́ция на горя́чей подло́жке — vacuum deposition on a hot substrateва́куумная металлиза́ция на холо́дной подло́жке — vacuum deposition on a cold substrateдиффузио́нная металлиза́ция — surface impregnation, surface absorption, metallic cementationметаллиза́ция като́дным распыле́нием — cathode sputteringпла́зменная металлиза́ция — plasma spraying processметаллиза́ция распыле́нием — spray coating, metal spraying, metallizingподверга́ть дета́ль металлиза́ции распыле́нием — metal-spray a work-pieceосуществля́ть металлиза́цию распыле́нием порошко́вым спо́собом — carry out metal spraying by the powder processосуществля́ть металлиза́цию распыле́нием про́волочным спо́собом — carry out metal spraying by the wire processхими́ческая металлиза́ция — formation of a coating by chemical conversion, production of a chemically formed coatingметаллиза́ция электролити́ческим спо́собом — electroplating -
12 металлизация
1. ж. application of a metal coating2. ж. metallizing, metal spraying3. ж. bondingосуществлять металлизацию распылением порошковым способом — carry out metal spraying by the powder process
См. также в других словарях:
plasma sputtering — plazminis dulkinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma sputtering vok. Plasmazerstäubung, f rus. плазменное распыление, n pranc. pulvérisation à plasma, f … Radioelektronikos terminų žodynas
plasma sputtering — Смотри плазменное распыление … Энциклопедический словарь по металлургии
Sputtering — is a process whereby atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic ions. It is commonly used for thin film deposition, etching and analytical techniques (see below). Physics of sputtering Physical… … Wikipedia
Plasma-unterstütztes Ätzen — (physikalisch chemisches Ätzen) bezeichnet eine Gruppe von subtraktiven (abtragenden) Mikrostrukturverfahren in der Halbleitertechnologie. Als Trockenätzverfahren stellen sie alternative Strukturierungsverfahren zum sog. Nassätzen (nasschemischen … Deutsch Wikipedia
Sputtering — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique … Wikipédia en Français
Plasma-enhanced chemical vapor deposition — PECVD machine at LAAS technological facility in Toulouse, France. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate. Chemical reactions are involved… … Wikipedia
Plasma (physics) — For other uses, see Plasma. Plasma lamp, illustrating some of the more complex phenomena of a plasma, including filamentation. The colors are a result of relaxation of electrons in excited states to lower energy states after they have recombined… … Wikipedia
pulvérisation à plasma — plazminis dulkinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma sputtering vok. Plasmazerstäubung, f rus. плазменное распыление, n pranc. pulvérisation à plasma, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Pulvérisation cathodique (sputtering) — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique … Wikipédia en Français
Interacción plasma-pared — Este artículo o sección sobre física necesita ser wikificado con un formato acorde a las convenciones de estilo. Por favor, edítalo para que las cumpla. Mientras tanto, no elimines este aviso puesto el 15 de diciembre de 2007. También puedes… … Wikipedia Español
High Power Impulse Magnetron Sputtering — (HIPIMS, also known as High Impact Power Magnetron Sputtering and High Power Pulsed Magnetron Sputtering, HPPMS) is a method for physical vapor deposition of thin films which is based on magnetron sputter deposition. HIPIMS utilises extremely… … Wikipedia